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SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam
SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam
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Detail
- Entferne Unreinheiten und pflege deine Haut mit SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam. Angereichert mit Centella Asiatica-Extrakt aus Madagaskar, gleicht dieser Reinigungsschaum den pH-Wert der Haut aus, spendet Feuchtigkeit und hinterlässt ein weiches Gefühl. Die hypoallergene Formel eignet sich für empfindliche Haut.
Dieser Reinigungsschaum mit pH-Wert 5 entfernt effektiv feinen Staub und bietet ein weiches und feuchtigkeitsspendendes Finish. Die Centella Ampoule beruhigt die Haut und sorgt für ein ausgewogenes Hautbild. Kokosnuss-Tenside reinigen sanft und spenden Feuchtigkeit, während ultrafeines Natronpulver Talg und Schmutz in den Poren entfernt.
Inhaltsstoffe:
Centella Asiatica-Extrakt, Natriumcocoylisethionat, Glycerin, Wasser, Natriummethylcocoyltaurat, Coco-Betain, Kaliumcocoylglycinat, 1,2-Hexandiol, Natriumchlorid, Kaliumcocoat, Kaliumbenzoat, Polyquaternium-67, Zitronensäure, Dextrin, Natriumbicarbonat, Theobroma Cacao (Kakao)-Extrakt, Dinatrium-EDTA, Natriumacetat, Butylenglykol, Coptis Chinensis-Wurzelextrakt, Natriumhyaluronat, Eclipta Prostrata-Extrakt, Coccinia Indica-Fruchtextrakt -
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